鍍鋁膜光密度儀原理

光密度儀原理：光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征。它用透光鏡測(cè)量。光密度沒(méi)有量綱單位，是一個(gè)對(duì)數(shù)值，通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說(shuō)是光線透過(guò)率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。計(jì)算公式為OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。
現(xiàn)代的真空鍍膜技術(shù)中，真空蒸鍍金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子束加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜的一種工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中用的最多的是鍍鋁膜；目前鍍鋁膜層厚度可使用光密度儀來(lái)測(cè)量，檢測(cè)鍍鋁膜的光度密度法就是需要使用到鍍鋁膜光密度儀，也叫鍍鋁膜光密度計(jì)。
通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過(guò)率為10%－0.1%），數(shù)值越大鍍鋁層越厚，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局的ANSI/NAPM IT2.19對(duì)試驗(yàn)條件做了詳細(xì)規(guī)定。
鍍鋁薄膜通常應(yīng)用于具有阻隔性或遮光性要求的包裝上使用，因此，鍍鋁層的厚度和表面狀況以及附著牢度的大小將直接影響其上述性能。鍍鋁膜的檢驗(yàn)主要體現(xiàn)在厚度、鍍鋁層牢度和鍍鋁層的表面狀況等方面。
由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規(guī)的測(cè)厚儀器檢測(cè)其厚度，常用的檢測(cè)方法就是光密度法；LS117光密度儀應(yīng)用而生。

所以，真空鍍鋁膜在生產(chǎn)線上就要控制好鍍膜厚度的均勻性，如今市場(chǎng)上有專用便攜式鍍鋁膜光密度儀，可以直接檢測(cè)樣片的光密度數(shù)值。