真空鍍鋁膜厚度均勻性檢測(cè)

真空鍍鋁膜經(jīng)常應(yīng)用于具有阻隔性或遮光性要求的包裝上使用，因此，鍍鋁膜層的厚度和表面狀況以及附著牢度的大小將直接影響其鍍膜產(chǎn)品的性能。鍍鋁膜的檢測(cè)主要體現(xiàn)在鍍膜層厚度、鍍鋁層牢度和鍍鋁層的表面狀況等方面。高品質(zhì)的鍍鋁膜要求在真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)過程中鍍膜層厚度均勻，在光學(xué)真空鍍薄膜這是一項(xiàng)技術(shù)要求較高的工藝技術(shù)，
? ? ? ?隨著真空鍍鋁膜的無間生長(zhǎng)，檢測(cè)真空鍍鋁薄膜的鍍層厚度勻稱性需要裝配真空鍍鋁薄膜在測(cè)厚儀，在線監(jiān)測(cè)鍍膜過程中的鍍層厚度的一致性?，F(xiàn)今市場(chǎng)上已經(jīng)有真空鍍鋁薄膜在測(cè)厚儀，公用于鍍膜產(chǎn)品光學(xué)性能的在線監(jiān)測(cè)，確保真空鍍膜產(chǎn)品品質(zhì)。

由于真空鍍鋁薄膜上的鍍膜層非常薄，因此不能使用常規(guī)的測(cè)厚儀來檢測(cè)其厚度，檢測(cè)的方法主要有電阻法和光密度測(cè)量法。電阻法是利用歐姆定律來對(duì)鍍鋁膜層的厚度進(jìn)行測(cè)量，根據(jù)歐姆定律：R=P*L/S。單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小，其鍍鋁層的厚度越厚，反之則越薄。光密度法是利用光學(xué)可見光透過率來監(jiān)測(cè)鍍膜層的均勻性，光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征。它用透光鏡測(cè)量。光密度沒有量綱單位，是一個(gè)對(duì)數(shù)值，通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。表示被檢測(cè)物吸收掉的光密度，是檢測(cè)方法里出現(xiàn)的專有名詞。它與透光率值存在固定公式轉(zhuǎn)換關(guān)系。林上真空鍍鋁薄膜在測(cè)厚儀就是用的光密度測(cè)量法。
? ? ? ?光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。計(jì)算公式為：
? ? ? ?OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）
? ? ? ?通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過率為10%－0.1%），數(shù)值越大鍍鋁層越厚，使用真空鍍鋁薄膜在測(cè)厚儀就能詳細(xì)了解鍍鋁膜的厚度均勻性與光學(xué)透光率值、光密度值之間的關(guān)系。