蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)

來(lái)源:林上科技   發(fā)布時(shí)間:2012/03/19 08:34  瀏覽:4197
真空鍍膜是在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,真空鍍膜應(yīng)用較多的是蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射兩種,鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)性能可以根據(jù)產(chǎn)品的需求運(yùn)用真空鍍膜在線(xiàn)測(cè)試儀進(jìn)行檢測(cè)。

真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,真空鍍膜有很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。應(yīng)用較多的是蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜和磁探濺射鍍膜的特點(diǎn)如下:
? ? ? ?一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。
? ? ? ? 1、厚度均勻性主要取決于:A.基片材料與靶材的晶格匹配程度;B.基片表面溫度;C.蒸發(fā)功率、速率;D.真空度;E.鍍膜時(shí)間、厚度大小。
? ? ? ? 2、組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
? ? ? ? 3、晶向均勻性:1.晶格匹配度2.基片溫度3.蒸發(fā)速率二.濺射類(lèi)鍍膜可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,最終形成薄膜。

真空鍍膜設(shè)備


???????二、磁控濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。
? ? ? ?鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)檢測(cè)可以根據(jù)產(chǎn)品的需求,運(yùn)用真空鍍膜在線(xiàn)測(cè)試儀進(jìn)行在線(xiàn)檢測(cè)和控制。

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