真空鍍膜設(shè)備性能分析

真空鍍膜設(shè)備主要由真空腔、抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、成膜控制系統(tǒng)等組件構(gòu)成。如今鍍光學薄膜的真空鍍膜機還可配置安裝光密度在線檢測儀，深圳市林上專業(yè)生產(chǎn)的??光密度在線檢測儀LS152??是專業(yè)用于真空鍍鋁膜、真空磁控濺射鍍太陽膜等光學薄膜生產(chǎn)線上真空鍍膜檢測設(shè)備。

?????? 真空鍍膜設(shè)備性能分析如下：
?????? 1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。
? ? ? ?2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。
? ? ? ?3、夾具運轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動的速度范圍及轉(zhuǎn)動精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。
? ? ? ?4、真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。
???????5、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發(fā)（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質(zhì)及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等），真空測量可選擇數(shù)字式智能真空計及其優(yōu)質(zhì)的測量規(guī)管，及其它測量儀器，如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計等。?????
???? ??6、充氣方式可選用質(zhì)量流量計、浮子流量計 + 針閥及相應(yīng)的充氣閥門，并可選擇多路充氣管路及相應(yīng)流量參數(shù)。
? ? ? ?7、根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應(yīng)儀表測量。
? ? ? ?8、根據(jù)設(shè)備使用特點，可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。
? ? ? ?9、完善的報警系統(tǒng)，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。